Resapan Permukaan dan Implantasi Ion
Tidak seperti rawatan nano permukaan, resapan permukaan dan implantasi ion dope logam atau bahan bukan logam ke dalam bahan matriks aloi titanium, menukar komposisi struktur permukaannya, dan meningkatkan rintangan permukaan matriks aloi titanium melalui lapisan yang diubah suai. Sebagai contoh, permukaan aloi titanium dan titanium diserap oleh bahan bukan logam seperti nitrogen dan karbon, atau disebarkan oleh bahan logam seperti aluminium dan molibdenum, dengan itu meningkatkan rintangan haus dan rintangan kakisan matriks aloi titanium. Rintangan kakisan substrat TC4 boleh dipertingkatkan dengan berkesan dengan menyusup TA pada permukaan substrat TC4 dengan kaedah nyahcas cahaya katod retikular.
Struktur fasa permukaan TC6 boleh banyak diubah dengan menggunakan kaedah pembenaman serbuk pepejal dan kaedah penyediaan lapisan menyusup molibdenum supaya kekerasan permukaan TC6 boleh ditingkatkan kepada 1400hv; Pada masa ini, dengan perkembangan pesat sains dan teknologi, penyelidikan teori dan kedalaman fungsi aplikasi teknologi vakum bertambah baik secara beransur-ansur. Teknologi implantasi ion boleh diperoleh daripada teknologi penembusan permukaan asal. Sebagai contoh, kekerasan permukaan aloi titanium TA7 boleh ditingkatkan kepada 1200hv oleh ion nitriding. Kekerasan permukaan aloi Ti6AI4V yang dirawat oleh teknologi pengkarbonan bebas hidrogen plasma cahaya arka boleh mencapai 935hv dan menunjukkan rintangan haus yang kuat. Aloi Ti6Al4V juga boleh dirawat dengan teknologi karbonitriding elektrolitik plasma fasa cecair untuk menghasilkan lapisan keras terdeposit Ti pada permukaan aloi. Meningkatkan masa rawatan aloi titanium dengan cara ini boleh meningkatkan ketebalan lapisan penyusupan keras dengan berkesan dan meningkatkan rintangan haus aloi titanium.
Teknologi Salutan Permukaan
Permukaan bahan asas dirawat dengan proses yang sepadan. Salutan komposit dan bahan asas menghasilkan salutan pelindung pada permukaan bahan asas, yang mempunyai sifat yang baik dalam kimia, haba, dan sebagainya. Dengan bantuan rintangan kakisan dan rintangan haba salutan permukaan, kos pengeluaran dapat dikurangkan, untuk meningkatkan prestasi produk dan mempunyai hayat perkhidmatan yang panjang dalam penggunaan berikutnya. Pada masa ini, teknologi salutan permukaan pemendapan wap dan pelapisan secara berkesan boleh meningkatkan rintangan haus aloi titanium dan mempunyai kesan yang kuat terhadap rintangan kakisan. Penyepaduan organik pengaktifan permukaan dan rawatan penghidrogenan boleh meningkatkan kekonduksian permukaan aloi titanium dengan berkesan dan mengelakkan kakisan bahan selepas bersentuhan dengan air hujan lembut. Menggunakan teknologi pemendapan wap, substrat TA2 dan TC11 dijadikan filem TiAIN, yang boleh membentuk gabungan metalurgi tiga elemen dalam bahagian ikatan antara filem dan substrat, dan dengan berkesan meningkatkan pelbagai sifat substrat.
