Sasaran sputtering titaniumpenghantaran kepada pelanggan pada 13hb Dis
Nama produk sasaran pusingan Titanium
Gred Gr1 Gr2 Gr3 Gr5 (Ti6al4v)
Sasaran titanium standard: syarat teknikal: mematuhi ASTM B34897
Sasaran plat titanium: keadaan teknikal: mematuhi ASTM B265-93
Spesifikasi: spesifikasi biasa: 60/65/95/100 * 30/32/40/45mm
Sasaran plat: (8-25mm * (150-300) mm * (1000-2500) mm
Sasaran tiub: 70mm * 7mm/10mm
Penggilap permukaan boleh diulirkan
Ciri-ciri: Ringan, rintangan kakisan yang sangat baik, rintangan kakisan, kekuatan tinggi, rintangan haba yang baik, kemuluran yang baik, bukan toksik, bukan magnet, kekuatan mekanikal yang sangat baik, dsb.
Keadaan Keadaan Penyepuhlindapan (M) Keadaan kerja panas (R) Keadaan kerja sejuk (Y) (penyelidikan, pengesanan kecacatan ultrasonik)
Aplikasi: Digunakan dalam peranti pemisah semikonduktor, paparan panel rata, filem elektrod penyimpanan, salutan sputtering, salutan permukaan bahan kerja, industri salutan kaca
Ketulenan adalah salah satu petunjuk prestasi utama sasaran titanium kerana ketulenan sasaran mempunyai kesan yang besar terhadap prestasi filem. Walau bagaimanapun, dalam aplikasi praktikal, keperluan untuk ketulenan sasaran juga berbeza. Cip silikon kini berkisar dalam saiz dari 6 inci hingga 8 inci hingga 12 inci, dan lebar pendawaian telah mengecil daripada 0.5 um kepada 0.25 um, 0.18 um, atau malah 0.13 um, terima kasih kepada kemajuan pantas industri mikroelektronik. Sebelum ini, 99.995 peratus daripada ketulenan sasaran boleh memenuhi keperluan proses 0.35 um IC, manakala 99.999 peratus atau bahkan 99.9999 peratus daripada ketulenan sasaran diperlukan untuk penyediaan 0.18 garisan um .
Sumber utama pencemaran bagi filem termendap adalah kekotoran dalam pepejal sasaran dan oksigen dan wap air di dalam liang. Bahan sasaran yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran yang berbeza. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khas untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Sasaran biasanya diperlukan untuk mempunyai ketumpatan tinggi untuk mengurangkan keliangan dalam pepejal sasaran dan meningkatkan prestasi filem tergagap. Ciri-ciri elektrik dan optik filem juga dipengaruhi oleh ketumpatan sasaran sebagai tambahan kepada kadar sputtering. Filem ini berprestasi lebih baik lebih besar ketumpatan sasaran. Selain itu, sasaran boleh bertahan daripada tekanan haba semasa proses sputtering dengan lebih baik dengan menjadi lebih padat dan lebih kuat. Ketumpatan juga merupakan salah satu petunjuk prestasi utama sasaran.
